產(chǎn)品介紹

原理介紹

X射線的能量穿過(guò)金屬鍍層的同時(shí)，金屬元素其電子會(huì)反射其穩(wěn)定的能量波譜。通過(guò)這樣的原理，我們?cè)O(shè)計(jì)出：X射線金屬膜厚測(cè)試儀也可稱(chēng)為X射線金屬膜厚測(cè)量?jī)x，又稱(chēng)X射線金屬涂鍍層厚度測(cè)量?jī)x，其不同之處為其即是薄膜厚度測(cè)試儀，也是薄膜表層金屬元素分析儀，因響應(yīng)全球環(huán)保工藝準(zhǔn)則，故目前市場(chǎng)上普遍使用的都是無(wú)損薄膜X射線金屬膜厚測(cè)試儀。

標(biāo)準(zhǔn)配置

開(kāi)放式樣品腔。

精密二維移動(dòng)樣品平臺(tái)，探測(cè)器和X光管上下可動(dòng)，實(shí)現(xiàn)三維移動(dòng)。

雙激光定位裝置。

鉛玻璃屏蔽罩。

Si-Pin探測(cè)器。

信號(hào)檢測(cè)電子電路。

高低壓電源。

X光管。

高度傳感器

保護(hù)傳感器

計(jì)算機(jī)及噴墨打印機(jī)

X射線金屬膜厚測(cè)試儀性能特點(diǎn)

滿足各種不同厚度樣品以及不規(guī)則表面樣品的測(cè)試需求

φ0.1mm的小孔準(zhǔn)直器可以滿足微小測(cè)試點(diǎn)的需求

高精度移動(dòng)平臺(tái)可定位測(cè)試點(diǎn)，重復(fù)定位精度小于0.005mm

采用高度定位激光，可自動(dòng)定位測(cè)試高度

定位激光確定定位光斑，確保測(cè)試點(diǎn)與光斑對(duì)齊

鼠標(biāo)可控制移動(dòng)平臺(tái)，鼠標(biāo)點(diǎn)擊的位置就是被測(cè)點(diǎn)

高分辨率探頭使分析結(jié)果更加精準(zhǔn)

良好的射線屏蔽作用

測(cè)試口高度敏感性傳感器保護(hù)

X射線金屬膜厚測(cè)試儀技術(shù)指標(biāo)

型號(hào)：XTD射線金屬膜厚測(cè)試儀

元素分析范圍從硫(S)到鈾（U）。

同時(shí)可以分析30種以上元素，五層鍍層。

分析含量一般為ppm到99.9% 。

鍍層厚度一般在50μm以內(nèi)（每種材料有所不同）

任意多個(gè)可選擇的分析和識(shí)別模型。

相互獨(dú)立的基體效應(yīng)校正模型。

多變量非線性回收程序

度適應(yīng)范圍為15℃至30℃。

電源: 交流220V±5V, 建議配置交流凈化穩(wěn)壓電源。

外觀尺寸： 576(W)×495(D)×545(H) mm

樣品室尺寸：500(W)×350(D)×140(H) mm

重量：90kg

應(yīng)用領(lǐng)域

主要用于貴金屬加工和首飾加工行業(yè)；銀行，首飾銷(xiāo)售和檢測(cè)機(jī)構(gòu)；電鍍行業(yè)。

黃金，鉑，銀等貴金屬和各種首飾的含量檢測(cè).

金屬鍍層的厚度測(cè)量, 電鍍液和鍍層含量的測(cè)定。

同時(shí)X射線金屬膜厚測(cè)試儀廣泛應(yīng)用于金屬鍍層的厚度測(cè)量、電鍍液和鍍層含量的測(cè)定電鍍、led支架、PCB、電子電器、氣配五金、衛(wèi)浴等行業(yè)